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          CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
          CVD真空氣相沉積設備
          側(cè)式真空氣相鍍膜設備

          LPMS CVD12

          側(cè)式真空氣相鍍膜設備

          • 不銹鋼真空反應罐,結(jié)構(gòu)合理,堅固耐用;真空管路采用不銹鋼連節(jié),方便維護及保養(yǎng)。

          • 1.2米大直徑真空反應罐,單次鍍膜數(shù)量多, 能滿足大型工件的鍍膜需求。

          • 側(cè)開式門設計便于取放產(chǎn)品與腔體清潔等維護作業(yè)。

          • 反應罐內(nèi)置轉(zhuǎn)盤機構(gòu)使產(chǎn)品在鍍膜過程中轉(zhuǎn)動,鍍層更均勻。

          • 使用數(shù)位LED真空計顯示工作真空度。

          • 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。

          • 紅外線加熱圈,加溫速度快。

          • 采用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

          • 定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能

          • 自診功能和各種故障報警。

          運用范圍

                 真空氣相沉積設備是一種用于電子產(chǎn)品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構(gòu)成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質(zhì)氣體經(jīng)過升華、熱解后進入放置產(chǎn)品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產(chǎn)品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無應力、優(yōu)異的電絕緣性和防護性、防潮、防霉、防腐、防鹽霧的薄膜涂層?!?/p>

                 廣泛應用于:航空航天、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領域產(chǎn)品的防水封裝與保護工藝中。



          產(chǎn)品規(guī)格

          設備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 ) / 重量

          3000 mm x 1420 mm x 1620mm

          反應罐體外徑

          ?1210 mm x1240 mm

          反應罐罐口尺寸

          890 mm x1200 mm

          輸入電壓

          三相 380 VAC / 50 Hz

          設備最大功率

          15 Kw

          溫控分區(qū)

          6

          分解爐溫控范圍

          室溫至700℃

          升華爐溫控范圍

          室溫到150℃

          原料門溫控范圍

          室溫到250℃

          制冷壓縮機功率

          1000 W

          制冷量

          887 W

          最低制冷溫度

          -90℃

          真空泵型號

          2RH 090C

          真空泵抽氣速率

          90 m3

          最大真空壓力

          ≤ 5 Pa

          真空泵電機功率

          3.7 KW (三相380VAC)

          真空泵電機轉(zhuǎn)速

          1440 R/Min

          控制系統(tǒng)

          10 ”人機界面,PLC 控制


            
            

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