2. 

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     CVD Chemical Vapor Deposition
	 CVD真空氣相鍍膜
	 

          

          








          

          
     
	 


          

          

	




          真空氣相沉積材料
          


          
		  
		  









          

          
      
	 
                 CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名：派瑞林、聚對二甲苯、英文名：Parylene)，它可在真空下氣相沉積，活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部、底部，周圍形成無針孔，並厚度均勻的透明絕緣塗層，給元件提供了一個完整的優(yōu)質(zhì)防護塗層，抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害，因為所使用的不是液體，所以塗敷過程中不會聚集，橋接式形成彎月面。
                Parylene派瑞林高分子材料根據(jù)分子結(jié)構(gòu)可分為： N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據(jù)客戶技術(shù)要求與產(chǎn)品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料，並給於專業(yè)的技術(shù)指導。
          1535791635366673.jpg
          派瑞林牌號
          成膜特性
          CAT
          N粉
          CAT
          C粉
          CAT
          D粉
          CAT
          F(VT4)粉
          CAT
          AF4(HT)粉
          密度（gm/cc)
          1.1
          1.3
          1.41
          1.55
          1.5
          介電常數(shù)（1Mhz)
          2.6
          2.9
          2.8
          2.3
          2.2
          介電強度（V/Mil)
          7000
          5600
          5500
          5000
          7000
          最低持續(xù)工作溫度(空氣中）
          -60°C
          -60°C
          -60°C
          -60°C
          -60°C
          最高持續(xù)工作溫度(空氣中）
          60°C
          80°C
          110°C
          200°C
          300°C
          摩擦係數(shù)-動態(tài)
          0.25
          0.29
          0.38
          0.39
          0.16
          線性膨脹係數(shù)(ppm at 25°C)
          69
          35
          38
          45
          34
          吸水性（24H後）
          <% 0.1
          <% 0.1
          <% 0.1
          <% 0.1
          <% 0.1
          水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)
          0.6
          0.08-0.1
          0.1
          0.25-0.32
          0.2
          氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)
          16
          3
          12.0-13.5
          16.8
          25.3
          
	  
	 
          	
		 
          	
			  
            

			  
          
		 
          

	 
          
	 

          

          		
		

		




          






		














            

            2. 

            1. 

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